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广州市双门化工有限公司

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批发低价足含量——氢氟酸
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产品: 浏览次数:162批发低价足含量——氢氟酸 
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最后更新: 2017-09-16 05:58
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详细信息

“批发低价足含量——氢氟酸”参数说明

类型: 超酸 种类: 氢氟酸
氢离子数: 二元酸 等级标准: 电子级
形态: 液体 型号: 氢氟酸
规格: 25kg 商标: 国标
包装: 桶装

“批发低价足含量——氢氟酸”详细介绍

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主营:磷酸三钠(无水磷酸钠)、三聚磷酸钠、磷酸氢二钠、氢氧化钠、草酸、葡萄糖酸钠、片碱、食用片碱、珠碱、烧碱、硫化碱、水合肼、元明粉、K-12、氢氟酸、双氧水,冰醋酸等洗涤,染整,纺织、印染,污水处理,电镀,表面处理,食用添加剂,医药、化妆品、造纸、木业、橡塑、涂料、油墨、建筑,各类表面活性剂(AEO系列,TX系列,NP系列,一,二,三乙醇胺)等一系列化工产品。期待合作。

供应商联系人:黄生
化工原料供应商热线:13926431310/13729271675
QQ:2375246546.


市售通常浓度:溶质的质量分数40%,工业级;质量分数40%,电子级。为高度危害毒物。最浓时的密度1.18g/cm3随着HF 溶液质量分数的提高, HF对碳钢的腐蚀速率是先升高后降低[ 。浓度低时因形成氢键具有弱酸性,但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别。液态氟化氢是酸性很强的酸,酸度与无水硫酸相当,但较氟磺酸弱。[3] 腐蚀性强,对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存
化学试剂-氢氟酸

用HF溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片(与HNO3的混酸)。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强,使得氢氟酸在水中不能完全电离。
氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃(主要成分:二氧化硅),生成气态的四氟化硅反应方程式如下:
SiO2(s) + 4 HF(aq) → SiF4(g) + 2H2O(l)
生成的SiF4可以继续和过量的HF作用,生成氟硅酸:
SiF4(g)+2HF(aq)=H2[SiF6](aq),氟硅酸是一种二元强酸。
正因如此,它必须储存在塑料(理论上讲,放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好)、蜡质制或铅制的容器中。氢氟酸没有还原性。如果要长期储存,不仅需要一个密封容器,而且容器中应尽可能将空气排尽。
与硅和硅化合物反应生成气态的四氟化硅(能腐蚀玻璃),但对塑料、石蜡、铅、金、铂不起腐蚀作用。能与水和乙醇混溶。市售氢氟酸溶质质量分数40%,相当于22.5mol/L。35.35%的氢氟酸为共沸混合物。剧毒,最小致死量(大鼠,腹腔)25mg/kg。有腐蚀性,能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤能形成较难愈合的溃疡。
工业制法:工业上用氟氢化钾加热至500℃进行热分解或用萤石(氟化钙CaF2)和浓硫酸加热到700℃时来制备氢氟酸。
KHF2 --(500℃)→ KF + HF
CaF2+ H2SO4(浓)→(加热) 2 HF + CaSO4
这样收集到的氟化氢常含有水,硅及硫的化合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏等方法来提纯
也可用HCl与萤石(氟化钙CaF2)反应制取:
CaF2+2HCl=CaCl2+2HF
氟气与氢气混合后立刻爆炸,生成氟化氢
F2(g)+H2(g)=2HF(g)
其实关于氢氟酸,它在水溶液中有两个平衡:
1HF=H+ F- k1=7.2*10-4
由于氢氟酸溶解氧化物的能力,它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃,可以雕刻图案、标注刻度和文字;半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物,在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂,除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成,比如Teflon(聚四氟乙烯)还有氟利昂一类的致冷剂。

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